PEKIN (CHINE) [15.02.11] – La première exposition d’envergure consacrée à l’artiste chinois Ai Weiwei dans son pays vient d’être annulée. Un mois après la démolition de l’atelier du plasticien par les autorités chinoises, les organisateurs de l’exposition, l’Ullens Center of Contemporary Art (UCCA), ont jugé le moment « inopportun » pour une telle manifestation.
L'artiste chinois Ai Weiwei a annoncé le 14 février l’annulation de sa première grande exposition organisée dans son pays. La manifestation devait se tenir à partir de mars 2011 à l’Ullens Center of Contemporary Art (UCCA), un important établissement dédié à l’art contemporain à Pékin. Les responsables de l’UCCA ont expliqué au plasticien, personnalité très critique envers le régime chinois, qu’ils ont jugé le moment « inopportun » pour lui consacrer une grande exposition mais qu'ils souhaitent la reprogrammer ultérieurement. « Le moment est sensible et politiquement ils pensent que cela n'est pas opportun », a expliqué l’artiste à l’AFP. Plutôt que de reporter l’événement, Ai Weiwei a préféré renoncer à l'exposition.
Le 12 janvier 2011 l’atelier de l’artiste, situé à Shanghai, a été démoli par les autorités. En novembre 2010, apprenant que les édiles voulaient raser son atelier, le plasticien avait décidé d’organiser une cérémonie commémorative. Afin d’empêcher la tenue de cette cérémonie et d’éviter tout débordement, les autorités l’avaient alors assigné à résidence. L’artiste a confirmé que les responsables de l’UCCA avaient invoqué la démolition de son atelier et son assignation à résidence comme raisons au report de l’exposition.
La directrice de la communication de l'UCCA, Vivienne Li, a expliqué à l’AFP que la galerie connaît actuellement des changements à sa direction et qu’elle ne souhaite pas se mettre en porte-à-faux avec les autorités chinoises.
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Annulation de la première grande exposition de l’artiste engagé Ai Weiwei en Chine
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Abonnez-vous dès 1 €Affiche de l'exposition "So Sorry" d'Ai Weiwei à l'Hausderkunst (2009/2010) - Photo Pittigrilli - 2010 - Licence CC BY SA 3.0